REM-Labor

Atmosphärisches Rasterelektronenmikroskop XL30 ESEM-FEG der Firma Philips/FEI mit Energiespersivem Röntgenspektrometer der Firma EDAX
Hochvakuum Rasterelektronenmikroskop S-2700LB

 

Laborausstattung

- ultrahochauflösendes Rasterelektronenmikroskop unter Hoch- und Niedrigvakuumbedingungen Nova NanoSEM 230 der Firma FEI ausgerüstet mit:

  • analytisches System Pegasus XM4 der Firma AMETEK bestehend aus einem Energiedispersiven Röntgenspektrometer (EDS) Apollo 40 und einem Electron Backscattered Diffraction System (EBSD)
  • Kühltisch für cryopräparierte Proben sowie Cryo-Transfersystem
  • Cryo-Präparationseinheit bestehend aus einer Hochdruckgefrieranlage HPM 100 und einer Gefrierbruch- und Sputteranlage MED 020 der Firma Leica

- Atmosphärisches Rasterelektronenmikroskop (Environmental-SEM) XL30 ESEM-FEG der Firma Philips/FEI mit Energiespersivem Röntgenspektrometer der Firma EDAX

- Konventionelles Hochvakuum Rasterelektronenmikroskop S-2700LB der Firma Hitachi mit Energiedispersivem Röntgenspektrometer der Firma Thermo Noran

- Sputtercoater SCD 500 zum Aufbringen dünner leitfähiger Schichten (Firma Leica)

- Sputtercoater S-150B der Firma Edwards

- Hochvakuum-Bedampfungsanlage B30 Firma Hochvakuum Dresden

- Kritisch-Punkt-Trocknungsanlage der Firma Bal-Tec

- Energiedispersives Röntgenmikrofluoreszenz Spektrometer Orbis PC der Firma AMETEK

- NanoSight LM10HS (Partikelgrößenmessgerät bis 10 nm) der Firma NanoSight Ltd.

- Auflichtmikroskopie (Hell- Dunkelfeld)

- Vakuumeinbettung mit Kunstharzen für die Anschliffpräparation der Firma Buehler

- Schleif- und Poliereinrichtung auf Diamantbasis sowie Vibrationspoliermaschine der Firma Buehler

- Präzisionssäge IsoMet4000 der Firma Buehler

- Digitale Scanning- und Bildbearbeitungssysteme der Firma Olympus/SIS

- Glove-Box zur CO2-freien Bearbeitung und Lagerung von Proben

- Messstand zur Analyse wässriger Systeme (elektr. Leitfähigkeit, pH-Wert, Ca-Ionenselektive Elektrode)

- Ionenstrahlätzsystem EM TIC 3X (Leica)

ultrahochauflösendes Rasterelektronenmikroskop unter Hoch- und Niedrigvakuumbedingungen Nova NanoSEM 230

Kontakt

Bauhaus-Universität Weimar
Fakultät Bauingenieurwesen 
F. A. Finger-Institut für Baustoffkunde 
Dr. rer. nat. Bernd Möser
Leiter der AG Elektronenmikroskopie/Zementchemie
Coudraystr. 11
99421 Weimar

Tel.: +49 (0) 36 43/58 47 26
E-Mail: bernd.moeser[at]uni-weimar.de